膜厚分析仪性能优势
膜厚分析仪能够满足对不同厚度和不规则表面样品的测试要求。
小φ0.1mm的小孔准直器能够满足微小测试点的要求。
高移动平台能够精准定位测试点，其重复定位低于0.005毫米。
快速且无损的分析
膜厚分析仪多可以分析25种元素。
同时可以进行五层的进一步分析。
基于基本参数法的涂层和成分分析技术
只需用USB线将其连接到电脑即可。
快速面板控制按钮
体积小、设计轻便。
厚度为800A的图片.jpg
技术指标
膜厚分析仪可对从硫（S）到铀（U）之间的任意金属镀层进行元素分析。
可以同时对多达五层的镀层进行分析。
薄膜可测试至0.005微米。
分析含量范围通常在2ppm到99.9%之间。
镀层的厚度通常在50微米以内（具体取决于材料种类）。
多个可选择的分析与识别模型。
相互独立的基体效应修正模型
多变量非线性回归程序
工作稳定性良好。
工作环境：
适用温度范围为15℃到30℃。
膜厚分析仪电源要求：交流电220V±5V，建议使用交流净化稳压电源。
仪器尺寸为：宽576毫米，深495毫米，高545毫米。
体重：90公斤
仪器产品检测
镀镍器件是一种常见的电镀产品，其镍层不仅可以有效保护铜基体免受氧化，还具有美观的效果。本文以测试客户的铜镀镍样品为例，来说明该仪器的测试效果。我们使用Thick800A仪器对铜镀镍样品的镍层厚度进行了实际测量，进行了七次测试并记录了其标准偏差和相对标准偏差。同时，该仪器还能够在样品上进行定位测试，测试位置如图所示。
膜厚分析仪可以快速检测镀层膜厚、电镀液成分、RoHS有害物质、重金属含量、槽液杂质及水质，能够判断环境中的重金属是否超标。天瑞仪器thick800a的部件包括：
膜厚分析仪的快速测量功能：只需1分钟即可确定样品镀层的厚度，并满足测量的要求。
便捷性：X荧光光谱仪某些型号采用国际进口的电制冷半导体探测器，能量分辨率优于135eV，提供更高的测试。此外，该设备无需液氮冷却，也不需要定期补充液氮，使得操作更加简便，同时运行成本相较于其他同类产品更具优势。
无损：经过测试，样品没有出现任何形式的变化。
直观展示：实时谱图可清晰显示元素的含量。
测试范围广泛：X荧光光谱仪是一种物理分析方法，其分析结果与样品的化学结合状态无关。能够分析在化学性质上属于同一族的元素，并且通过抽真空技术可以测试从钠（Na）到铀（U）之间的元素。
性高：因测试过程中没有人为干扰，仪器的分析、重复性和稳定性都很出色，因此其测量的准确性更高。
满足多样化需求：该测试软件适用于WINDOWS操作系统，界面友好、功能强大。软件能够监控仪器状态、设定仪器参数，并提供多种分析方法，可灵活制作工作曲线，方便满足不同客户和样品的测试要求。
膜厚分析仪具有较高的性价比：与化学分析仪器相比，X荧光光谱仪在整体使用成本上更具优势，能够更被众多企业和制造商所接受。
简易：对人员的技术要求不高，操作简单且方便，维护也较为容易。
